박막재료의 제작과 평가
분야
hwp° 실험 목적
° 실험 관련 이론
° 실험 방법
° 실험 결과
° 결과에 대한 고찰
ITO에 대한 기본적인 이론을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 특성 평가를 통해 실제 ITO와의 차이를 비교해보고 고찰하자.
2. 실험 관련 이론
▒ 스퍼터링
스퍼터링은 스퍼터링 가스를 진공챔너 내로 주입하여 박막으로 입힐 타겟물질과 충돌시켜 플라즈마를 생성시킨 후 이를 기판에 증착시키는 방법이다. 일반적으로 사용되는 스퍼터링 가스는 Ar을 사용한다. 스퍼터 장치는 음극에 타겟을, 양극에 기판을 연결한다. 전원을 공급하면 주입된 스퍼터링 가스(Ar)는 음극 쪽에서 방출된 전자와 충돌하여 여기상태의 Ar+로 되고 이 여기된 가스는 음극인 타겟 쪽으로 끌리며 충돌하고 플라즈마가 발생한다
절연체와 같은 부도체는 교류 전원을 사용하여 박막을 만드는데, 교류전원은 13.56 ㎒의 주파수를 가지며 이를 RF라 한다. 이러한 교류 전원을 사용하는 스퍼터링 법을 교류스퍼터링(RF sputtering)이라 한다.
세미디스플레이 2008.10호 (정석균)
ITO 투명전극재료 (한국과학기술정보연구원)
UV spectrophotometer 란? (네이버 지식인)
http://kin.naver.com/qna/detail.nhn?d1id=11&dirId=1116&docId=53317886&qb=dmlzaWJsZSBzcGVjdHJvcGhvdG9tZXRlciDsm5Drpqw=&enc=utf8§ion=kin&rank=2&search_sort=0&spq=0&sp=1&pid=gVchI35Y7uZsstBKZ6Cssc--337379&sid=TsGUdPMswU4AAHNlSDI