공정이 수율 향상의 핵심이라고 생각합니다. 회로의 선폭이 좁아질수록 미세한 패턴 구현이 수율과 직결되기 때문에 노광 기술의 정밀도가 무엇보다 중요해졌기 때문입니다. 최근 도입된 EUV 장비의 안정화와 포토레스크트 소재의 최적화는 ... Ⅱ. 2025 상세한 면접후기 6명 지원자 1 (합격) 아침 일
공정에서 프로파일 불량은 주로 식각 선택비 불균형이나 플라즈마 조건 불안정으로 발생합니다. 특히 가스 조성이나 RF 파워가 일정하지 않으면 측면 식각이 발생할 수 있습니다. 저는 우선 공정 조건 데이터를 확인하여 이상 변동 여부를 파악할 것입니다. 이후 챔버 상태나 장비 오염 여부도 함께 점
장비의 개선 대책과 같이 예방대책을 세우는 일이 있을것 같습니다" 라고 말씀드렸고 굉장히 만족하셨습니다. ★ 네패스 개요 회사는 시스템 반도체의 소형화, 고성능화에 기여하는 첨단 후공정 파운드 리 사업과 반도체/디스플레이 제조에 사용되는 전자재료사업으로 구분되어 있습니다. 즉, 반
장비의 강점은 무엇이라고 생각합니까? 2. 도쿄일렉트론코리아 FE 면접 참여자들의 생생한 면접 후기 6인 사례 지원자 1) 면접 분위기는 대체로 차분했지만 직무 이해도를 묻는 질문에서는 상당히 날카로운 압박이 들어왔습니다. 특히 도쿄일렉트론의 특정 공정 장비가 현장에서 문제를 일으켰을
공정 경로의 복잡성을 관리하는 것이 핵심입니다. 각 제품마다 투입되는 원자재와 거치는 공정 순서가 다르므로, 이 흐름이 엉키지 않도록 최적화된 스케줄링을 구현해야 합니다. 제조 엔지니어는 ----------------------- Chapter 3. [실전 복기] SK키파운드리 반도체 제조 면접자 5인 생생 면접 후기 지원자 1
