분야
hwp( 목 차 )
1. 자발적으로 최고 수준의 목표를 세우고 끈질기게 성취한 경험에 대해 서술해 주십시오.
2. 새로운 것을 접목하거나 남다른 아이디어를 통해 문제를 개선했던 경험에 대해 서술해 주십시오.
3. 지원분야와 관련하여 특정 영역의 전문성을 키우기 위해 꾸준히 노력한 경험에 대해 서술해 주십시오.
4. 혼자 하기 어려운 일에서 다양한 자원 활용, 타인의 협력을 최대한으로 이끌어 내며, Teamwork를 발휘하여 공동의 달성에 기여한 경험에 대해 서술해 주십시오.
5. 면접 기출 질문 및 모범답안
1. 자발적으로 최고 수준의 목표를 세우고 끈질기게 성취한 경험에 대해 서술해 주십시오.
4학년 1학기, ‘반도체 공정 및 실험’ 과목에서 팀 프로젝트를 진행하게 되었습니다. 당시 주어진 과제는 단순한 산화공정 실험이었지만, 저는 팀원들과 협의하여 실험의 수준을 한 단계 끌어올리자고 제안했습니다. 목표는 열산화법과 화학적 습식 산화를 비교해 산화막 두께의 균일성 차이와 전기적 특성 차이를 직접 측정·분석해보는 것이었습니다. 교수님께 제안서를 직접 제출하여 실험 범위 확대를 허락받았고, 목표한 바를 실현하기 위해 실험 설계부터 측정 장비 선정, 공정 조건 변수까지 직접 설정해야 했습니다.
실험 장비는 학교 내부에 제한적이었기 때문에, 관련 연구실에 직접 방문해 담당 조교와 협조를 요청하며 장비 사용 스케줄을 조정해나갔습니다. 열산화는 고온 산소 분위기에서 처리해야 하므로 정확한 온도·시간 제어가 핵심이었습니다. 초기 실험에서는 산화막 두께가 불균일하게 측정되었고, 측정 결과의 반복성이 낮아 데이터를 신뢰할 수 없었습니다. 원인을 파악해보니 산화로 투입 전 웨이퍼 세정 단계에서 일부 입자 제거가 미흡했고, 산화 시간 또한 일정하지 않았다는 것을 알게 되었습니다.
문제를 해결하기 위해 실험 전 웨이퍼 클리닝을 RCA 방식으로 세분화하였고, 산화 조건도 정확히 제어하기 위해 자동 타이머를 별도 구성하여 인위적 오차를 줄였습니다. 또한 웨이퍼 위치에 따른 열 분포를 확인하고자 dummy wafer를 함께 투입해 열 균일성을 확보했습니다. 이후 다시 측정한 산화막 두께는 5nm 이하의 오차 범위를 보였고, 화학적 습식 산화와도 비교했을 때 열산화가 표면 균일도 측면에서 더 우수한 결과를 확인할 수 있었습니다.
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