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[레포트]isrc 실습 보고서

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    • 소개글
    [레포트]isrc 실습 보고서에 대한 자료입니다.
    본문내용
    ▶실험 목표
    반도체 Process를 이용하여 기본적인 MOS capacitor를 제작하고, C-V 특성을 측정함으로써 반도체 공정을 기본적으로 이해할 수 있도록 한다.

    ▶실습에 쓰인 장비 및 주의사항
    ☞장비

    Marking & resistivity 측정
    Laser Masker & 4-point probe
    Cleaning
    Wet Station
    Oxidation & oxide thickness 측정
    Furnace & Ellipsometer(M-2000V)
    Backside oxide etch
    Dry Etcher
    Metal deposition
    Endura sputter
    Photo lithography
    Nikon stepper & Aligner
    Metal wet etching
    Wet Station(WA-1B)
    PR Strip & metal thickness 측정
    Wet Station(WS-10C)
    C-V 특성
    HP4280A


    하고 싶은 말
    참고자료로 활용하셔서 좋은 결과 있기를 바랍니다.
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